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三基色荧光粉还原用氨分解制氢

2020年06月08日 07:27:10   分类: 氢气装置

三基色荧光粉还原用氨分解制氢流程简述:

  利用液氨为原料,氨经裂解后,每公斤液氨裂解可制得2.64Nm3混合气体,其中含75%的氢气和25%的氮气。所得的气体含杂质较少(杂质中含水汽约2克/立方米,残余氨约1000ppm),再通过分子筛(美国UOP)吸附纯化器,气体的露点可降至-600C以下,残余氨可降至3PPM以下.

  氨裂解制氢炉可用于有色金属,硅钢、铬钢和不锈钢等金属材料和零件的光亮退火、硅钢片的脱碳处理、铜基、铁基粉末冶金烧结、电真空器件的金属零件烧氢处理、半导体器件的保护烧结和封结、钯合金膜扩散纯化氢气的原料气等。

  原料氨容易得到,价格低廉,原料消耗较少。氨裂解来制取保护气体具有投资少,体积小,效率高等优点.

  二.氨分解制氢工作原理:

  氨(气态)在一定温度下,经催化剂(西南院Z204)作用下裂解为75%的氢气和25%的氮气,并吸收21.9千卡热量,其主要反应为:

  2NH3—3H2+N2-21.9千卡

  整个过程因是吸热膨胀反应,提高温度有利于氨裂解,同时它又是体积扩大的反应,降低压力有利于氨的分解,氨分解制氢设备为使用最佳状态。

  三.氢气纯化工作原理:

  当氨分解制氢设备所产生的氢气合格时再进入氢气纯化作进一步提纯处理,裂解氢气的纯度很高,其中挥发性杂质只有微量的残氨和水份,可见只须除去微量残氨和水份即可获得高纯度气体.

  气体提纯采用变温吸附技术。变温吸附(TSA)技术是以吸附剂(多孔固体物质)内部表面对气体分子在不同温度下吸附性能不同为基础的一种气体分离纯化工艺.常温时吸附杂质气,加温时脱附杂质气,

  分子筛表面全是微孔,在常温常压下可吸附相当于自重20%(静态吸附时的水份和杂质,而在350℃左右的温度下,可以再生完全,每24小时切换一次,以得到纯度和杂质含量均合格的产品气体。

  氨分解制氢流程简述:

  利用液氨为原料,氨经裂解后,每公斤液氨裂解可制得2.64Nm3混合气体,其中含75%的氢气和25%的氮气。所得的气体含杂质较少(杂质中含水汽约2克/立方米,残余氨约1000ppm),再通过分子筛(美国UOP)吸附纯化器,气体的露点可降至-600C以下,残余氨可降至3PPM以下.

  氨裂解制氢炉可用于有色金属,硅钢、铬钢和不锈钢等金属材料和零件的光亮退火、硅钢片的脱碳处理、铜基、铁基粉末冶金烧结、电真空器件的金属零件烧氢处理、半导体器件的保护烧结和封结、钯合金膜扩散纯化氢气的原料气等。

  原料氨容易得到,价格低廉,原料消耗较少。氨裂解来制取保护气体具有投资少,体积小,效率高等优点

  二.氨分解制氢工作原理:

  氨(气态)在一定温度下,经催化剂(西南院Z204)作用下裂解为75%的氢气和25%的氮气,并吸收21.9千卡热量,其主要反应为:

  2NH3—3H2+N2-21.9千卡

  整个过程因是吸热膨胀反应,提高温度有利于氨裂解,同时它又是体积扩大的反应,降低压力有利于氨的分解,氨分解制氢设备为使用最佳状态。

  三.氢气纯化工作原理:

  当氨分解制氢设备所产生的氢气合格时再进入氢气纯化作进一步提纯处理,裂解氢气的纯度很高,其中挥发性杂质只有微量的残氨和水份,可见只须除去微量残氨和水份即可获得高纯度气体.

  气体提纯采用变温吸附技术。变温吸附(TSA)技术是以吸附剂(多孔固体物质)内部表面对气体分子在不同温度下吸附性能不同为基础的一种气体分离纯化工艺.常温时吸附杂质气,加温时脱附杂质气,

  分子筛表面全是微孔,在常温常压下可吸附相当于自重20%(静态吸附时的水份和杂质,而在350℃左右的温度下,可以再生完全,每24小时切换一次,以得到纯度和杂质含量均合格的产品气体。

 


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